products & services
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theoris 302／flouris 201 立式氧化炉是应用广泛、性能优良、产能突出的氧化成膜设备。
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theoris 302／flouris 201 立式退火炉是在中低温条件下，通入惰性气体（n2），优化硅片界面质量的一种设备。
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theoris 302 ／flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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theoris 302／flouris 201 立式合金炉是在低温条件下，通入惰性或还原性气体（n2/h2），优化硅片表面的一种设备。
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求，广泛用于ic、power、pv、mems、led等领域。
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horis d8573al用于低压环境下磷扩散及硼扩散工艺，实现高方阻、高均匀性、高产能的需求。应用于光伏及半导体领域。
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theoris 302／flouris 201 立式氧化炉是应用广泛、性能优良、产能突出的氧化成膜设备。
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theoris 302／flouris 201 立式退火炉是在中低温条件下，通入惰性气体（n2），优化硅片界面质量的一种设备。
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theoris 302 ／flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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theoris 302／flouris 201 立式合金炉是在低温条件下，通入惰性或还原性气体（n2/h2），优化硅片表面的一种设备。
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求，广泛用于ic、power、pv、mems、led等领域。
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theoris 302／flouris 201 立式氧化炉是应用广泛、性能优良、产能突出的氧化成膜设备。
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theoris 302／flouris 201 立式退火炉是在中低温条件下，通入惰性气体（n2），优化硅片界面质量的一种设备。
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theoris 302 ／flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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theoris 302／flouris 201 立式合金炉是在低温条件下，通入惰性或还原性气体（n2/h2），优化硅片表面的一种设备。
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求，广泛用于ic、power、pv、mems、led等领域。