esther 200单片硅外延系统 esther 200 single wafer silicon epitaxy system -尊龙官方平台

esther200单片硅外延系统是一种单片硅外延化学气相沉积系统。随着ic制造向更小特征线宽尺寸和更薄外延层的发展，集成电路器件对于外延片的质量要求不断增加，也对外延系统的功能和外延性能提出了更高的要求，诸如工艺均匀性控制、低晶体缺陷、低掺杂和颗粒密度可控性强的要求等，越来越多的外延工艺需要采用单片式的硅外延系统。esther200单片硅外延系统具有先进的红外加热控制技术和加热模块设计，可实现温度的快速升降和温度场的精确控制，使系统具备优异的工艺重复性和设备稳定性，从而获得良好的厚度均匀性、电阻率均匀性，零滑移线和低缺陷密度的外延层生长。同时，独特的腔室结构设计使得该系统可实现常/减压工艺间的快速切换，以满足客户不同的工艺需求，提高了器件设计者在优化器件性能方面的灵活性。