bcube系列 wc2000m、wc1000m手动槽式清洗机 bcube series wc2000m、wc1000m manual bench wet station -尊龙官方平台

   在半导体制造工艺中，上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物等，光阻掩膜或残留会导致芯片良率下降等问题，这需要通过清洗工艺来 解决。清洗一般采用化学和物理作用力相结合的方法实现，在清洗时既要有很好的腐蚀选择性，高效的去除超微细颗粒物及各种残留物的能力，又不能对晶片表面的 精细图形结构造成损伤。手动槽式清洗设备由于在设备产能、设备稳定性等方面的优势而广泛应用在微机电系统、半导体照明、功率半导体等领域。