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半导体装备 semiconductor

tau series

离子微粒吸附设备

tau series 离子微粒吸附设备

tau series thermal amc unit

tau系列离子微粒吸附设备在面板生产中主要应用于曝光机设备，用于去除空气中可能会降低曝光机镜组折射率的有害物质。同时具有精确控制温度和控制湿度的功能。

设备特点

提升产品蚀刻及显影良率
防止曝光设备镜面雾化以延长镜组使用年限
防止镜片组污染，延长灯具照度与寿命

产品应用

湿度控制精度
±5%rh~±3%rh
温度控制精度
±0.5℃~±0.3℃
气状分子污染物去除率
＞80% in main amc
适用领域
主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂的曝光机镜面防雾化, 去除吸入曝光机中的amc 污染物

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