pse v300di为高密度等离子体刻蚀机，适用于12英寸无机复合膜层，有机物刻蚀等工艺。具备高刻蚀速率、高刻蚀均一性能力，低颗粒等性能优势。该设备为多腔室集群设备，可全自动化并行工艺，易维护，性能稳定，客户拥有成本低。已广泛应用于科研领域、先进封装领域和led显示领域等制造中的关键工艺。
