flouris x201p主要用于8英寸中温氧化及退火工艺。设备为批式热处理设备，由工艺腔室、传输系统、气体分配系统和温度控制系统等组成，具有片内均匀性好、自动化程度高、系统性能稳定的特点，可满足大规模集成电路生产线要求，可实现常规氧化及bpsg回流退火等工艺，温度控制可调，精度高。
