12英寸立式pi固化炉 -尊龙官方平台

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theoris a302c

12英寸立式pi固化炉

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theoris a302c 12英寸立式pi固化炉
theoris a302c 12 inch vertical polyimide cure furnace
theoris a302c立式退火炉在中低温条件下,通入n₂、h₂或d₂等气体,消除硅片界面处金属及非金属晶格缺陷和晶格损伤,优化硅片界面质量,提升器件良率。该退火设备提供高精度的温度控制算法、严格的金属控制指标、稳定的传输控制系统以及安全的特气处理装置等尊龙官方平台的解决方案,兼顾了工艺目标的实现与生产可靠性的保障。
设备特点
  • 高精度温度场控制技术
  • 先进的颗粒控制技术
  • 高效的副产物收集技术
  • 先进的氧含量控制技术
产品应用
  • 晶圆尺寸
    12英寸
  • 适用材料
  • 适用工艺
    pi胶固化
  • 适用领域
    集成电路、 功率半导体
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