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esther e320r

8英寸单片减压硅外延系统

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esther e320r 8英寸单片减压硅外延系统
esther e320r 8 inch single wafer reduced pressure silicon epitaxy system
esther e320r主要用于体硅外延、埋层外延、选择性外延等多种特色工艺的运行。该设备主要由传输系统模块、工艺腔室模块、压力控制模块等组成。精准的压力、气流场与温场控制,保证了外延片良好的工艺性能,保证成膜质量。传输模块可兼容多种晶圆尺寸,同时满足多种类的工艺需求。
设备特点
  • 专业的气流场和温度场设计,获得良好的工艺性能
  • 高精度的压力控制系统,保证成膜质量
  • 稳定的传输和电机升降系统,保证工艺结果一致性
  • 友好的人机交互和全面的安全性设计,保障系统稳定、安全、高效
  • 具有单腔和多腔两种机型,可满足不同客户需求
产品应用
  • 晶圆尺寸
    6/8英寸兼容
  • 适用材料
  • 适用工艺
    体硅外延、埋层外延、选择性外延
  • 适用领域
    集成电路、功率半导体、衬底材料、科研领域
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