polaris series 12英寸背面金属物理气相沉积系统
polaris series 12 inch backside metal pvd system
- 设备特点
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- 专业的磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率
- 灵活的腔室配置，优化的工艺流程带来大产能表现，低运营成本
- 稳定的传输系统，兼容翘曲片、键合片、薄片等多种类型基片传输
- 良好的颗粒和应力控制能力
- 产品应用
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- 晶圆尺寸12英寸
- 适用材料铝、镍钒、银、钛
- 适用工艺背面金属化工艺
- 适用领域功率半导体、先进封装
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